專利申請權(quán)力要求書的概述，專利申請權(quán)力要求書的撰寫？

來源：尚標(biāo)商標(biāo)轉(zhuǎn)讓平臺    發(fā)布時間：2021-09-17 13:58:39　　瀏覽：3032

一、專利申請權(quán)利要求書的概述

《專利法》第59條第1款規(guī)定:發(fā)明或者實(shí)用新型專利權(quán)的保護(hù)范圍以其權(quán)利要求的內(nèi)容為準(zhǔn)，說明書及附圖可以用于解釋權(quán)利要求的內(nèi)容。因此，權(quán)利要求書是確定專利權(quán)保護(hù)范圍的依據(jù)，也是判斷他人是否侵權(quán)的依據(jù)。

權(quán)利要求書和權(quán)利要求是兩個不同的概念，不能混淆，更不能簡單的劃等號。權(quán)利要求書是專利申請人為獲取專利權(quán)而撰寫并向?qū)＠姓块T提交的一項(xiàng)重要文件。權(quán)利要求則是指權(quán)利要求書中記載的具體的技術(shù)特征，一項(xiàng)權(quán)利要求書中可以包含多個權(quán)利要求。權(quán)利要求書是權(quán)利要求的載體。

專利申請獲得授權(quán)后，權(quán)利要求是作為限定專利保護(hù)范圍的依據(jù)，其對專利的概括程度與專利保護(hù)范圍的大小有密切關(guān)系。為了充分保護(hù)申請人的利益，權(quán)利要求應(yīng)能夠謀求盡可能大的保護(hù)范圍。

一般來說，權(quán)利要求數(shù)量越多，專利的保護(hù)范圍越大，說明專利的原創(chuàng)性越高，專利質(zhì)量也越高，同時遭遇侵權(quán)和訴訟的頻率也越高。

二、專利申請權(quán)利要求書的撰寫

權(quán)利要求的撰寫有多種撰寫方式，應(yīng)當(dāng)要和技術(shù)交底材料的內(nèi)容相適應(yīng)

1.撰寫前排除明顯不能獲得專利保護(hù)的主題

撰寫以前，首先要排除不符合《專利法》第2條有關(guān)發(fā)明或者實(shí)用新型的定義的主題，排除明顯屬于《專利法》第5條或者第25條不能授予專利權(quán)的客體，排除明顯不符合《專利法》第22條第4款有關(guān)實(shí)用性規(guī)定的主題。

2. 撰寫要求

（1）權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)包括獨(dú)立權(quán)利要求和從屬權(quán)利要求（《專利法實(shí)施細(xì)則》第20條第1款）。

（2）獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)滿足下列要求：在合理的前提下具有較寬的保護(hù)范圍，能夠最大限度地體現(xiàn)申請人的而利益；清楚簡明地限定其保護(hù)范圍（《專利法》第26條第4款）；記載解決技術(shù)問題的全部必要技術(shù)特征（《專利法實(shí)施細(xì)則》第20條第2款）；對于現(xiàn)有技術(shù)具備新穎性和創(chuàng)造性（《專利法》第22條第2款、第3款）；符合《專利法》及《專利法實(shí)施細(xì)則》關(guān)于獨(dú)立權(quán)利要求的其他規(guī)定。

（3）從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)滿足下列要求：從屬權(quán)利要求的數(shù)量適當(dāng)、合理；與被引用的權(quán)利要求之間有清楚的邏輯關(guān)系（《專利法》第26條第4款、《專利法實(shí)施細(xì)則》第22條）；當(dāng)授權(quán)后面臨不得不縮小權(quán)利要求保護(hù)范圍的情況時，能提供充分的修改余地；符合《專利法》及《專利法實(shí)施細(xì)則》關(guān)于從屬權(quán)利要求的其他規(guī)定。

（4）撰寫多個獨(dú)立權(quán)利要求的，多個獨(dú)立權(quán)利要求之間應(yīng)當(dāng)具有單一性。

3. 權(quán)利要求撰寫的方式

（1）不考慮概括的撰寫方式

撰寫的核心任務(wù)是找到技術(shù)交底材料中的區(qū)別技術(shù)特征，并圍繞區(qū)別技術(shù)特征撰寫權(quán)利要求書，將起到基礎(chǔ)、根本作用的區(qū)別技術(shù)特征作為發(fā)明點(diǎn)。技術(shù)交底材料如果針對發(fā)明點(diǎn)只有一個實(shí)施例，一般不需要考慮對實(shí)施例的概括。

1）不需要對多個實(shí)施例的概括情形

以下幾種情況，一般不需要對涉及同一技術(shù)內(nèi)容幾個實(shí)施方式進(jìn)行概括：如果技術(shù)交底材料只給出一個技術(shù)主題之下的一個實(shí)施例的情況，一般不進(jìn)行上位概括或者功能性概括；如果技術(shù)交底材料給出了多個實(shí)施例，但是多個實(shí)施例的之間為主從關(guān)系，可針對基礎(chǔ)結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品撰寫?yīng)毩?quán)利要求（不需要概括），而將其他幾種結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品作為該獨(dú)立權(quán)利要求的從屬權(quán)利要求撰寫；如果交底材料中明確給出了上位或者功能概括的方式，也不需要考慮多個實(shí)施例的概括問題。

2）權(quán)利要求不需要概括的情形下的撰寫步驟

針對不需要概括的權(quán)利要求，通過以下6個步驟撰寫：

第一步：技術(shù)特征分析。第一步技術(shù)特征分析中包括兩個方面：列出全部技術(shù)特征；分析技術(shù)特征之間的邏輯關(guān)系。

第二步：找發(fā)明點(diǎn)。找發(fā)明點(diǎn)的步驟中包括兩個方面：技術(shù)對比，找出區(qū)別技術(shù)特征；在區(qū)別技術(shù)特征中確定發(fā)明點(diǎn)。

第三步：確定所要解決的技術(shù)問題。在第三步中，應(yīng)當(dāng)根據(jù)第二步中確定的發(fā)明點(diǎn)所產(chǎn)生的技術(shù)效果，與最接近的現(xiàn)有技術(shù)對比，確定發(fā)明所要解決的技術(shù)問題。

第四步：確定必要技術(shù)特征。必要技術(shù)特征是解決最根本技術(shù)問題必不可少的特征，實(shí)際產(chǎn)品必不可少的特征不一定是必要技術(shù)特征。

第五步：撰寫?yīng)毩?quán)利要求。在第四步確定必要技術(shù)特征的基礎(chǔ)上，完成獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫。獨(dú)立權(quán)利要求的撰寫分為兩個方面：確定主題名稱。主題名稱一般限于技術(shù)交底材料提供的產(chǎn)品或者方法的名稱，主題名稱一般不需要概括。主題名稱注意不要出現(xiàn)區(qū)別特征； 對必要技術(shù)特征在語言上進(jìn)行調(diào)整。將第四步確定的必要技術(shù)特征進(jìn)行組合，與最接近的現(xiàn)有技術(shù)做比較，將它們共同的必要技術(shù)特征寫入獨(dú)立權(quán)利要求的前序部分，區(qū)別于最接近現(xiàn)有技術(shù)的必要技術(shù)特征寫入特征部分。

第六步：撰寫從屬權(quán)利要求。對其他附加技術(shù)特征進(jìn)行分析，將那些對申請創(chuàng)造性會起作用的附加技術(shù)特征寫成相應(yīng)的從屬權(quán)利要求。如果從屬權(quán)利要求的數(shù)目不多，現(xiàn)有技術(shù)的特征也可以寫入從屬權(quán)利要求中。

（2）多個實(shí)施例的概括撰寫方式

如果針對發(fā)明點(diǎn)有兩個以上的實(shí)施例，盡可能將其共性在一個權(quán)利要求中進(jìn)行概括。

1）多個實(shí)施例需要概括的判斷

對于具有多種不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品權(quán)利要求而言，在撰寫權(quán)利要求時，首先應(yīng)當(dāng)分析這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品之間的關(guān)系：

多個實(shí)施例的改進(jìn)之間為主從關(guān)系；

多個實(shí)施例為并列改進(jìn)，各改進(jìn)方案之間具有相同的構(gòu)思。a.多個實(shí)施例可以進(jìn)行概括。如果這些不同結(jié)構(gòu)產(chǎn)品之間是并列的、且滿足單一性要求的技術(shù)方案，則應(yīng)當(dāng)盡可能對這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品采用概括方式（上位概括或者功能性概括）的技術(shù)特征加以描述，從而將這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品都納入獨(dú)立權(quán)利要求中；在此基礎(chǔ)上再分別針對這些不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品的區(qū)別撰寫相應(yīng)的從屬權(quán)利要求；b.多個實(shí)施例無法進(jìn)行概括，可以分別針對這些具有不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品撰寫?yīng)毩?quán)利要求：

多個實(shí)施例為并列改進(jìn)，各改進(jìn)方案之間不具有單一性。如果幾種不同結(jié)構(gòu)的產(chǎn)品是并列的技術(shù)方案，且彼此之間不屬于一個總的發(fā)明構(gòu)思，則只能分別在兩件專利申請中以獨(dú)立權(quán)利要求方式撰寫。

2）需要概括的權(quán)利要求的撰寫步驟

針對需要概括的權(quán)利要求，仍然通過前面介紹的6步法進(jìn)行撰寫，在第4步確定必要技術(shù)特征時，需要對多個實(shí)施例的共同點(diǎn)進(jìn)行概括。

對于針對發(fā)明點(diǎn)有兩個以上并列實(shí)施例的，可以通過以下方式概括：功能性概括，采取具有……的功能的裝置/部件/結(jié)構(gòu)的概括方式；功能性概括，但是不出現(xiàn)部件名稱，而是直接以功能代替具體結(jié)構(gòu)；上位概括，采取部件的上位名稱代替具體部件；上位概括，不出現(xiàn)上位名稱，而是用省略具體結(jié)構(gòu)的方式表述。

（3）并列發(fā)明點(diǎn)的寫法

如果最根本的區(qū)別特征有兩個或者兩個以上，則屬于并列發(fā)明點(diǎn)。

1）并列發(fā)明點(diǎn)的判斷。出現(xiàn)以下情形時，需要考慮并列發(fā)明點(diǎn)獨(dú)立權(quán)利要求的布局問題：技術(shù)交底材料中明確給出了發(fā)明所要解決的多個最根本的技術(shù)問題，多個根本的技術(shù)問題是并列的，無依存或者主從關(guān)系，實(shí)施方式之間也沒有相同構(gòu)思；雖然技術(shù)交底材料中只有一個最根本所要解決的技術(shù)問題，但是有多個實(shí)施方式，多個實(shí)施方式之間不具有相同的構(gòu)思，無法進(jìn)行概括，撰寫為多個并列的獨(dú)立權(quán)利要求又不具有單一性。

2）并列發(fā)明點(diǎn)的布局方式。對于技術(shù)交底材料有多個發(fā)明點(diǎn)的撰寫，首先在第一件專利申請中，技術(shù)交底材料給出的技術(shù)內(nèi)容都要寫入到權(quán)利要求中。這時，第二個發(fā)明可能會寫為從屬權(quán)利要求。但是為了充分的保護(hù)發(fā)明創(chuàng)造，還需要針對第二個發(fā)明點(diǎn)撰寫成另一項(xiàng)獨(dú)立權(quán)利要求及其相應(yīng)的從屬權(quán)利要求，并建議委托人在同日另行提出一件專利申請。

3）撰寫步驟。并列發(fā)明點(diǎn)的撰寫與前面介紹的6步法基本相同，只是多了一個步驟7。在第二步確定發(fā)明點(diǎn)時發(fā)現(xiàn)有兩個或者兩個以上并列發(fā)明點(diǎn)時，在第五步撰寫?yīng)毩?quán)利要求先以第一個發(fā)明點(diǎn)為核心撰寫?yīng)毩?quán)利要求。在步驟7中，以第二個發(fā)明點(diǎn)為核心再撰寫第一個獨(dú)立權(quán)利要求

以上是關(guān)于專利申請權(quán)力要求的相關(guān)內(nèi)容，如果還有其他問題，可以咨詢尚標(biāo)知識產(chǎn)權(quán)進(jìn)行詳細(xì)了解。

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