關(guān)于年均增長(zhǎng)率的題目_中國(guó)發(fā)明專利數(shù)量的年均增長(zhǎng)率仍保持高水平

中新網(wǎng)北京9月28日電 (記者 閆曉虹)最新研究報(bào)告顯示，盡管中國(guó)的專利活動(dòng)增長(zhǎng)速度近期有所放緩，但在過(guò)去的十年間，中國(guó)發(fā)明專利數(shù)量的年均增長(zhǎng)率仍保持22.6%的高水平。

記者28日獲悉，作為全球創(chuàng)新活動(dòng)的風(fēng)向標(biāo)，由全球領(lǐng)先的智能信息服務(wù)提供商科睿唯安發(fā)布的《2017全球創(chuàng)新報(bào)告：進(jìn)無(wú)止境》顯示，2016年度科學(xué)研究與專利活動(dòng)在12個(gè)主要行業(yè)的增長(zhǎng)速度均遜色于2015年度。但發(fā)明專利數(shù)量仍呈現(xiàn)上升態(tài)勢(shì)，公開(kāi)專利超過(guò)260萬(wàn)件。由此可見(jiàn)，全球企業(yè)、高等院校、政府以及研究機(jī)構(gòu)正在堅(jiān)持不懈地為解決人類(lèi)所面臨的重大問(wèn)題而提供新的解決方案。

2016年，中國(guó)新發(fā)明專利的數(shù)量已從2007年的25.2萬(wàn)件增長(zhǎng)至182萬(wàn)件。相比之下，2007到2016年間，世界其他國(guó)家和地區(qū)的專利增長(zhǎng)率趨于平穩(wěn)，年均增幅僅為0.3%。此外，2016年度，中國(guó)新發(fā)明專利的數(shù)量仍占全球總量的68.1%，比2007年的23.3%增長(zhǎng)了三倍。

科睿唯安有關(guān)負(fù)責(zé)人表示，近期開(kāi)展的市場(chǎng)調(diào)查結(jié)果顯示，中國(guó)企業(yè)越來(lái)越多地重視知識(shí)產(chǎn)權(quán)戰(zhàn)略、知識(shí)產(chǎn)權(quán)管理與評(píng)估工作，并將重點(diǎn)從專利數(shù)量轉(zhuǎn)變?yōu)閷＠|(zhì)量。希望中國(guó)企業(yè)在群雄逐鹿的商業(yè)時(shí)代占據(jù)領(lǐng)先地位，引領(lǐng)世界創(chuàng)新的新潮流。

《2017全球創(chuàng)新報(bào)告》著眼于以下12個(gè)主要行業(yè)：航空航天與國(guó)防、汽車(chē)、生物技術(shù)、化妝品與健康、食品、飲料和煙草、家電、信息技術(shù)、醫(yī)療器械、石油和天然氣、制藥、半導(dǎo)體和通訊。

此外，該報(bào)告還對(duì)全球?qū)W術(shù)論文進(jìn)行了跟蹤，從而探究科技與學(xué)術(shù)研究現(xiàn)狀，了解未來(lái)的創(chuàng)新想法和創(chuàng)新保護(hù)趨勢(shì)。2016年度的學(xué)術(shù)論文產(chǎn)出增長(zhǎng)率同樣不及2015年度，進(jìn)一步印證了創(chuàng)新的增長(zhǎng)速度可能會(huì)進(jìn)一步放緩。(完) (原標(biāo)題：中國(guó)發(fā)明專利數(shù)量的年均增長(zhǎng)率仍保持高水平)http://rvmg.cn/zt/1697.html http://rvmg.cn/zt/1683.html http://rvmg.cn/zt/1668.html http://rvmg.cn/zt/1647.html http://rvmg.cn/zt/1629.html http://rvmg.cn/zt/1613.html http://rvmg.cn/zt/1595.html http://rvmg.cn/zt/1560.html http://rvmg.cn/zt/1544.html http://rvmg.cn/zt/1527.html http://rvmg.cn/zt/1508.html http://rvmg.cn/zt/1487.html http://rvmg.cn/zt/1470.html http://rvmg.cn/zt/1452.html http://rvmg.cn/zt/1435.html http://rvmg.cn/zt/1419.html http://rvmg.cn/zt/1405.html http://rvmg.cn/zt/1391.html http://rvmg.cn/zt/1374.html http://rvmg.cn/zt/1359.html http://rvmg.cn/zt/1351.html

文章標(biāo)簽:  專利